主要開(kāi)展第三代半導(dǎo)體(GaN,、AlN)單晶的生長(zhǎng),、加工及缺陷研究,生長(zhǎng)出高質(zhì)量晶體,,為我國(guó)高性能半導(dǎo)體器件的自主研發(fā)提供強(qiáng)力支撐,,有助于突破國(guó)外封鎖,,解決我國(guó)半導(dǎo)體的“缺料,、缺芯”問(wèn)題。
主要開(kāi)展第三代半導(dǎo)體(GaN,、AlN)單晶的生長(zhǎng),、加工及缺陷研究,生長(zhǎng)出高質(zhì)量晶體,,為我國(guó)高性能半導(dǎo)體器件的自主研發(fā)提供強(qiáng)力支撐,,有助于突破國(guó)外封鎖,,解決我國(guó)半導(dǎo)體的“缺料,、缺芯”問(wèn)題。